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为了推进高端光刻机的研发,谁也没想到,一切竟来得如此之快

日期:2020-10-17 21:02:57 来源:互联网 编辑:小优 阅读人数:116

此次美国针对华为的禁令生效已经过去了一个月,著名分析师郭明琪表示:华为若继续缺芯,最坏的打算将是退出手机市场。此后在9月底华为全联接大会上轮值董事长表示求生存依然是华为的主线,即便是在这一个月里国内芯片企业各种利好不断,但对于华为来讲却是爱莫能助。

为了推进高端光刻机的研发,谁也没想到,一切竟来得如此之快(图1)

为了推进高端光刻机的研发,谁也没想到,一切竟来得如此之快(图2)

前几日荷兰ASML公司高层表示无需美国同意,自己的DUV光刻机可以直接出售给中国客户。相比较高端EUV光刻机DUV光刻机在良品率和生产效率上相对落后,尤其是7nm以上工艺更是EUV的天下。即便这样ASML公司的7nm光刻机还是“一机难求”

为了推进高端光刻机的研发,谁也没想到,一切竟来得如此之快(图3)

据日经中文网10月15日最新报道,业内人士透露,为了推进高端光刻机的研发,中国企业已经打算提供资金联合尼康、佳能两家公司共同研发高端光刻机。高端光刻机迎来转机!谁也没想到,一切竟来得如此之快!这样的方式一方面可以加速光刻机的研发,另一方面加速相关技术的吸收和。

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中国企业突然出手,这次轮到ASML着急了!毕竟在极紫外线以外的高端光刻机,尼康和佳能还是有非常雄厚的实力。在2019年全球光刻设备市场尼康EUA二代光刻机的市场份额为35%,佳能在EUA三代市场份额为26%。如果能与中企合作突破“立体化”技术,这两家企业的市场地位也将水涨船高。

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不管未来我国在光刻机制造领域是弯道超车还是合作共赢,都应认清形势加快自研道路。技术在汽车领域中加速我国产业的发展,此次光刻机领域中能否再次合作出现新的转机呢?

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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